Destacan capacidad técnica de la designada fiscal general Consuelo Porras

El presidente Jimmy Morales nombró a María Consuelo Porras, actual magistrada suplente de la Corte de Constitucionalidad, como jefa del Ministerio Público para los próximos cuatro años.

Por Nancy Alvarez

Ayer se anunció de parte de la Presidencia de la República la designación de María Consuelo Porras Argueta como fiscal general y jefa del Ministerio Público (MP) para el período 2018-2022. Su nombramiento fue analizado hoy en el programa A Primera Hora, de Emisoras Unidas.

Como invitados en cabina participaron Helen Mack, de la fundación Myrna Mack; y Stuardo Ralón, abogado constitucionalista, quienes coincidieron en que la profesional se ha caracterizado por ser una persona muy técnica.

Ayer, Porras ofreció una conferencia de prensa en la cual abordó diferentes temas, entre estos, cuáles son las primeras acciones que llevará a cabo cuando asuma el cargo el próximo 17 de mayo. Según dijo, se enfocará en hacer un diagnóstico de la entidad, conocer las necesidades de la institución y su organización, e implementar la readecuación del modelo de gestión.

Mack expresó que su conferencia estuvo muy bien, pues marcó los puntos importantes, como la independencia, la continuidad del cumplimiento de la ley y el aporte de la Comisión Internacional Contra la Impunidad en Guatemala (CICIG).

“Teníamos buen concepto técnico del trabajo y recorrido que ha tenido (Porras). De la lista de seis, los seis eran buenos, con buena trayectoria, cualquiera igualmente tiene que tener conocimiento constitucional, pero además ella conocía sobre amparos constitucionales”, señaló la entrevistada.

Mientras que Ralón resaltó lo mencionado por Porras, quien dijo en la conferencia: “no estoy ligada más que a la justicia”. “Coincide con el único compromiso que debe tener un fiscal, sea la persona que sea se debe a la Constitución y debe actuar con imparcialidad”, expresó el abogado.

“Se ha notado su acuciosidad técnica y eso es valioso, porque en la función que tiene para precisar en una investigación y establecer una posición jurídica en el MP es fundamental que haya una solidez técnica”. “En este momento difícil, con una coyuntura política complicada, llevar a una persona técnica al MP me parece una buena designación”, manifestó el abogado.

 

Las primeras bajas en el MP

Momentos después de que se anunciara quién sustituiría a la fiscal general Thelma Aldana, el Ministerio Público informó que la funcionaria aceptó las renuncias de cuatro trabajadores de la institución. Se trata de Mayra Véliz, secretaria general; Rootman Pérez, secretario de Política Criminal; Ofelia González, secretaria Privada y de Asuntos Estratégicos; y Ronald Figueroa, coordinador Nacional del Sistema Informático.

Acerca de este tema, Mack señaló que era el círculo más cercano y de confianza de Aldana y por lo tanto lo lógico es que ese personal renuncie para darle la libertad a la nueva fiscal de elegir a su propio equipo.

“Particularmente no sabía que fuera habitual esa renuncia del círculo cercano en el MP casi en el momento en que se hace la designación del nuevo fiscal, me sorprendió un poco cuando vi la nota de que estaban renunciando. Es importante que en una institución de esa importancia, con los casos en proceso, haya una transición”, indicó por su parte Ralón.

Finalmente, la presidenta de la Fundación Myrna Mack dijo que todos le van a tener el ojo puesto a Porras y va a estar sobre la lupa. “El 99.9% de la población está a favor de la lucha contra la corrupción y espera que no haya retroceso. Serán sus actuaciones las que dirán si hay independencia y si (su trabajo) va en la línea de apoyar esa lucha”, refirió.

Mientras que Ralón aseguró que espera que Porras se distinga en el MP con las posiciones técnicas y sólidas que han marcado su trayectoria, y que logre con una excelente capacidad de gestión que la cobertura del ente investigador sea a nivel nacional, así como mejorar la capacitación del personal y brindar todas las herramientas necesarias para que los fiscales puedan trabajar.

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